CVD人工鉆石全自動激光打標(biāo)系統(tǒng)

CVD—化學(xué)氣相沉積法，CVD技術(shù)是化學(xué)氣相沉積Chemical Vapor Deposition的縮寫。

CVD人工鉆石的主要工藝制程：提供基底—提供氣源—產(chǎn)生等離子體—沉積碳原子—長晶過程（約2周以上）—穩(wěn)定和冷卻—激光切割初加工—激光打標(biāo)—拋光—化學(xué)處理—品質(zhì)檢測—激光切割二次加工—激光打標(biāo)—拋光—化學(xué)處理—品質(zhì)檢測—鉆石切面分析及3D模擬—激光切割三次精加工—拋光打磨—鉆石成品。

從上面的制程中我們可以清楚的知道，這里面有多道激光的制程，其中激光打標(biāo)也是重要的制程之一。

產(chǎn)品來料，由數(shù)字編碼變更為條形碼：

客戶要求：

1、人工只負(fù)責(zé)上下料和掃碼，其余所有工作由設(shè)備完成，避免人為因素操作錯誤。

2、只允許激光打標(biāo)在金剛石上表面，11位單線字，字高0.5-1mm，打標(biāo)深度≤0.05mm。

3、金剛石片的每一片來料厚度有一定差異，需要在激光打標(biāo)之前先測距并自動調(diào)整激光焦距。

4、增加視覺系統(tǒng)，視覺系統(tǒng)可以對產(chǎn)品進(jìn)行定位打標(biāo)（根據(jù)產(chǎn)品的外邊框位置確定激光打標(biāo)的位置），打標(biāo)完成之后可以放大圖像實時查看產(chǎn)品打標(biāo)的效果。

5、配掃描槍，激光打標(biāo)之前先掃描產(chǎn)品包裝袋的條形碼自動生成打標(biāo)內(nèi)容。

為此，我們專門開發(fā)了一套全自動CVD鉆石激光打標(biāo)系統(tǒng)：

（1）、設(shè)備外形：

（2）、設(shè)備構(gòu)造

（3）、設(shè)備內(nèi)構(gòu)

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（4）、設(shè)備尺寸

（5）、設(shè)備配置參數(shù)

激光器功率：10瓦紫外；

激光波長：355nm；

最小線寬：0.03mm（視材料）；

激光器冷卻方式：水冷；

工作環(huán)境溫度：10—30℃；

工作環(huán)境濕度：40%—80%，無結(jié)露；

打標(biāo)深度：≤0.1mm；

出光方式：朝下出光；

振鏡速度：≤10000mm/s；

重復(fù)精度：±0.003mm；

打標(biāo)范圍：常規(guī)100mm*100mm；

軟件要求：掃碼槍掃碼后自動生成激光打標(biāo)內(nèi)容；

整機耗電：≤1500瓦；

供電電網(wǎng)：220V/50Hz，波動范圍±5%，需有地線；

電磁信號干擾：安裝設(shè)備附近應(yīng)無強烈電磁信號干擾。安裝地周圍避免有無線電發(fā)射站（或中繼站）；

地基振幅：小于50um；振動加速度：小于0.05g。避免有大量沖壓等機床設(shè)備在附近；

煙塵：設(shè)備空間要求要保證無煙無塵，避免金屬拋光研磨等粉塵嚴(yán)重的工作環(huán)境；